高純度２−ナフチルアセトニトリル及びその製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20210503944

申请日：

2020-10-28

公开(公告)号：

JP6915189B1

公开(公告)日：

2021-08-04

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C255/33

IPC分类号：

C07C253/20

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共 50 条

[1]

高純度２−ナフチルアセトニトリル及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2021085468A1 ,2021-11-25

[2]

アセトニトリルの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016068062A1 ,2017-06-01

[3]

高純度トリシリルアミン、その製造方法、及び使用[ja] [P].

日本专利 :JP2019500309A ,2019-01-10

[4]

（４−フェニルチアゾール−２−イル）アルカンニトリルの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002079177A1 ,2004-07-22

[5]

１０−（２−ナフチル）アントラセントリエーテル化合物、その製造法及びその用途[ja] [P].

日本专利 :JP5842566B2 ,2016-01-13

[6]

高純度アルキルスズ化合物及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025518804A ,2025-06-19

[7]

高純度ジアリールカーボネートの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006041075A1 ,2008-05-15

[8]

（トリフルオロメチル）アルキルケトンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012077804A1 ,2014-05-22

[9]

α－オキシニトリル、α－チオニトリル、α－アミノニトリル及びα－ホスファニルニトリルから選択されるニトリル化合物の製造方法[ja] [P].

YURINO HIROMASA ;

TAKASHIMA TAKUYA ;

OKUMA TAKESHI .

日本专利 :JP2024125208A ,2024-09-13

[10]

アジポニトリルの製造方法及び装置[ja] [P].

日本专利 :JP2023509749A ,2023-03-09

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