集電体上に炭素-ケイ素複合材料を形成する方法[ja]

被引:0
申请号
JP20220148346
申请日
2022-09-16
公开(公告)号
JP2022171860A
公开(公告)日
2022-11-11
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01M4/66
IPC分类号
H01M4/36 H01M4/38 H01M4/587
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
集電体上に炭素-ケイ素複合材料を形成する方法[ja] [P]. 
BENJAMIN YONG PARK ;
RAHUL R KAMATH ;
FREDERIC C BONHOMME .
日本专利 :JP2024173951A ,2024-12-13
[2]
集電体上に炭素-ケイ素複合体を形成する方法[ja] [P]. 
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[4]
ケイ素含有炭素系複合材料[ja] [P]. 
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[6]
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[7]
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日本专利 :JP7549155B2 ,2024-09-10
[8]
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[9]
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日本专利 :JP2025536414A ,2025-11-05
[10]
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日本专利 :JPWO2010038784A1 ,2012-03-01