２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロテトラヒドロウリジンへの合成経路[ja]

被引：0

申请号：

JP20160526889

申请日：

2014-10-29

公开(公告)号：

JP2017500281A

公开(公告)日：

2017-01-05

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07H19/06

IPC分类号：

A61K31/7068 A61K31/7072 A61P35/00 A61P35/02 A61P43/00

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共 50 条

[1]

高純度の２’－デオキシ－２’，２’－ジフルオロテトラヒドロウリジン及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022552817A ,2022-12-20

[2]

２’−デオキシ−２’−フルオロピリミジンヌクレオシド類の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005040185A1 ,2007-11-22

[3]

光学活性２−［（１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−４−イル）メチル］−２−フルオロ−２，３−ジヒドロインデン−１−オンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014196557A1 ,2017-02-23

[4]

２，２，２−トリフルオロエチル−チアジアジン類[ja] [P].

日本专利 :JP2017524006A ,2017-08-24

[5]

２−（４−クロロフェニル）−Ｎ−（（２−（２，６−ジオキソピペリジン−３−イル）−１−オキソイソインドリン−５−イル）メチル）−２，２−ジフルオロアセトアミドの製剤[ja] [P].

日本专利 :JP2019501191A ,2019-01-17

[6]

１，２−ジヒドロピリジン−２−オン化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006004100A1 ,2008-04-24

[7]

新規中間体を介する５−（２−｛［６−（２，２−ジフルオロ−２−フェニルエトキシ）ヘキシル］アミノ｝−１（Ｒ）−ヒドロキシエチル）−８−ヒドロキシキノリン−２（１Ｈ）−オンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2014532059A ,2014-12-04

[8]

ジヒドロ−ベンゾ−オキサジンおよびジヒドロ−ピリド−オキサジン誘導体[ja] [P].

日本专利 :JP2015506344A ,2015-03-02

[9]

ＢＡＣＥ１阻害薬としてのジフルオロ−ヘキサヒドロ−シクロペンタオキサジニル類及びジフルオロ−ヘキサヒドロ−ベンゾオキサジニル類[ja] [P].

日本专利 :JP2015521640A ,2015-07-30

[10]

２−デオキシ−２−フルオロ−２−メチル−Ｄ−リボフラノシルヌクレオシド化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015518017A ,2015-06-25

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