共 50 条
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ＣＭＰ工程用後洗浄剤組成物[ja]
被引：0
申请号：
JP20210113728
申请日：
2021-07-08
公开(公告)号：
JP2023009994A
公开(公告)日：
2023-01-20
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/304
IPC分类号：
C11D1/72
C11D1/722
C11D3/04
C11D3/20
C11D3/30
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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