フォトマスクブランク、フォトマスクおよびフォトマスクブランクの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20100505926

申请日：

2009-03-31

公开(公告)号：

JPWO2009123170A1

公开(公告)日：

2011-07-28

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F1/08

IPC分类号：

H01L21/027

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法律状态信息

共 50 条

[1]

フォトマスクブランク、フォトマスクおよびフォトマスクブランクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009123171A1 ,2011-07-28

[2]

フォトマスクブランク及びフォトマスク[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008139904A1 ,2010-07-29

[3]

フォトマスクブランク、及びフォトマスク[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004051369A1 ,2006-04-06

[4]

フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010050447A1 ,2012-03-29

[5]

フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010038444A1 ,2012-03-01

[6]

フォトマスク及びフォトマスクの製造方法[ja] [P].

TANAKA CHIE ;

BANDO HIROKI ;

KAWAHARA MIYU ;

YAMADA SHINGO ;

MORIYAMA KUMIKO .

日本专利 :JP2024134433A ,2024-10-03

[7]

フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022136193A ,2022-09-15

[8]

ブランクマスク、フォトマスク及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015507227A ,2015-03-05

[9]

フォトマスクブランクおよびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009123166A1 ,2011-07-28

[10]

フォトマスクブランク及びフォトマスク、並びにそれらの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007099910A1 ,2009-07-16

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