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活性酸素種発生材料及び使用方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200115510
申请日
:
2020-07-03
公开(公告)号
:
JP7135031B2
公开(公告)日
:
2022-09-12
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
A61L15/26
IPC分类号
:
A61K33/40
A61L27/18
A61L27/54
A61L27/58
A61L27/60
A61P17/02
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
活性酸素種発生材料及び使用方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015526257A
,2015-09-10
[2]
活性酸素種発生材料及び使用方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015528350A
,2015-09-28
[3]
活性酸素種発生材料及び使用方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6612617B2
,2019-11-27
[4]
活性酸素種発生材料及び使用方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6189960B2
,2017-08-30
[5]
活性酸素発生装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7233697B2
,2023-03-07
[6]
活性酸素発生装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6889499B2
,2021-06-18
[7]
活性酸素種等測定装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004074828A1
,2006-06-01
[8]
活性酸素消去剤、活性酸素消去方法及び活性酸素消去剤の製造方法[ja]
[P].
SHIODA GOTARO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
MEDIPLUS PHARMA INC
MEDIPLUS PHARMA INC
SHIODA GOTARO
;
OKUMURA TATSUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
MEDIPLUS PHARMA INC
MEDIPLUS PHARMA INC
OKUMURA TATSUYA
.
日本专利
:JP2025126877A
,2025-08-29
[9]
活性酸素消去剤、活性酸素消去方法及び活性酸素消去剤の製造方法[ja]
[P].
SHIODA GOTARO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
MEDIPLUS PHARMA INC
MEDIPLUS PHARMA INC
SHIODA GOTARO
;
OKUMURA TATSUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
MEDIPLUS PHARMA INC
MEDIPLUS PHARMA INC
OKUMURA TATSUYA
.
日本专利
:JP2025126858A
,2025-08-29
[10]
活性酸素消去剤、活性酸素消去方法及び活性酸素消去剤の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025181544A
,2025-12-11
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