１−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ピペリジルアセチル）−４−メシルオキシピペリジンの製造方法及び１−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ピペリジルアセチル）−４−メシルオキシピペリジン[ja]

被引：0

申请号：

JP20190566520

申请日：

2019-01-18

公开(公告)号：

JPWO2019142901A1

公开(公告)日：

2021-01-07

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C07D211/46

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共 50 条

[1]

１−ベンジル−４−［（５，６−ジメトキシ−１−インダノン）−２−イリデン］メチルピペリジンの製造法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007013395A1 ,2009-02-05

[2]

カルボキシル基含有ニトリルゴム[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020138184A1 ,2021-11-11

[3]

１－｛２－［（３Ｓ，４Ｒ）－１－｛［（３Ｒ，４Ｒ）－１－シクロペンチル－３－フルオロ－４－（４－メトキシフェニル）ピロリジン－３－イル］カルボニル｝－４－（メトキシメチル）ピロリジン－３－イル］－５－（トリフルオロメチル）フェニル｝ピペリジン－４－カルボン酸もしくはその医薬的に許容し得る塩又は共結晶を含有する医薬組成物[ja] [P].

SUZUKI AKIHIRO ;

TOKUDA TAKAYUKI ;

UEHARA TOMOYUKI .

日本专利 :JP2024138436A ,2024-10-08

[4]

Ｎ−アルコキシカルボニル−ｔｅｒｔ−ロイシンの製造法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010122682A1 ,2012-10-25

[5]

メチル４−アミノ−３−クロロ−６−（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ピリジン−２−カルボキシレートを生成する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015504059A ,2015-02-05

[6]

４−（１−（４−（ペルフルオロエトキシ）フェニル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）ベンゾイルアジドの改良された製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017521391A ,2017-08-03

[7]

カルボキシメチルセルロースリチウム塩の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022097828A ,2022-07-01

[8]

トリフルオロメチルピリジン類の精製方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018186460A1 ,2020-05-14

[9]

ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート４級塩の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009090791A1 ,2011-05-26

[10]

ジブチルヒドロキシトルエン含有製剤及びジブチルヒドロキシトルエンの安定化方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013099861A1 ,2015-05-07

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