貴金属触媒、還元方法及び化合物の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20190027975

申请日：

2019-02-20

公开(公告)号：

JP7180440B2

公开(公告)日：

2022-11-30

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B01J31/06

IPC分类号：

B01J23/44 C07C5/08 C07C15/18 C07C29/145 C07C33/20 C07C33/24 C07C41/20 C07C41/26 C07C43/164 C07C43/178 C07C43/23 C07C51/09 C07C57/30 C07C63/06 C07C209/30 C07C209/32 C07C209/52 C07C209/62 C07C211/27 C07C211/47

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

貴金属触媒の製造方法及び貴金属触媒[ja] [P].

日本专利 :JP7222179B2 ,2023-02-15

[2]

ＭＯＦ化合物と非貴金属触媒の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7253074B2 ,2023-04-05

[3]

ＭＯＦ化合物と非貴金属触媒の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022528911A ,2022-06-16

[4]

還元化合物の製造方法[ja] [P].

NEMOTO TETSUHIRO ;

NAKAJIMA SEIYA ;

INOUE MAKOTO ;

OKIMURA ATSUSHI ;

NAKAJIMA HIROYUKI .

日本专利 :JP2025025579A ,2025-02-21

[5]

貴金属の除去方法、及び化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6992586B2 ,2022-01-13

[6]

金属化合物の還元方法[ja] [P].

日本专利 :JP5737742B2 ,2015-06-17

[7]

炭素化合物還元触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2022124864A ,2022-08-26

[8]

還元反応装置、及び被処理化合物の還元体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7349111B1 ,2023-09-22

[9]

化合物の製造方法及び触媒組成物[ja] [P].

WAKIOKA MASAYUKI ;

TADA KENICHI ;

HANAMURA HITOSHI ;

MARUYAMA YOICHIRO ;

HAMAGUCHI HITOSHI .

日本专利 :JP2025121676A ,2025-08-20

[10]

化合物、化合物の製造方法、及び化合物の精製方法[ja] [P].

日本专利 :JP5740042B2 ,2015-06-24

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