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透明導電膜を有する積層体および積層体の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150157968
申请日
:
2015-08-10
公开(公告)号
:
JP5910782B1
公开(公告)日
:
2016-04-27
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B32B27/30
IPC分类号
:
B32B27/16
B32B27/18
B32B27/36
G06F3/041
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
積層体および積層体の製造方法[ja]
[P].
TAKEI NOZOMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ARTIENCE CO LTD
ARTIENCE CO LTD
TAKEI NOZOMI
;
TAKEDA MASAFUMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ARTIENCE CO LTD
ARTIENCE CO LTD
TAKEDA MASAFUMI
.
日本专利
:JP2025084325A
,2025-06-03
[2]
積層体および積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012020771A1
,2013-10-28
[3]
積層体および積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7596491B1
,2024-12-09
[4]
積層体および積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020071269A1
,2021-09-02
[5]
積層体および積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7730972B1
,2025-08-28
[6]
半導体積層体および半導体積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016511537A
,2016-04-14
[7]
親水性膜、積層体および積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025178864A
,2025-12-09
[8]
電極膜の加工方法、磁性膜の加工方法、磁性膜を有する積層体、および該積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012090474A1
,2014-06-05
[9]
積層体、及び積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017110780A1
,2017-12-21
[10]
積層体及び積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022103620A
,2022-07-08
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