ケタールおよびアセタールの不斉水素化の方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20150547084

申请日：

2013-12-18

公开(公告)号：

JP2016501269A

公开(公告)日：

2016-01-18

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07D311/70

IPC分类号：

C07B53/00 C07C29/17 C07C33/03 C07C45/62 C07C49/04 C07D317/12 C07D319/06

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共 50 条

[1]

活性アルデヒドおよびケトンの光誘導放出のための環状アセタールおよびケタール[ja] [P].

日本专利 :JP2024540307A ,2024-10-31

[2]

アルデヒドアセタールのルテニウム触媒水素化方法[ja] [P].

THOMAS SCHAREINA ;

CAROLYN SHNEIDER ;

RALF JACKSTELL ;

BELLER MATTHIAS ;

ROBERT FRANKE .

日本专利 :JP2025100407A ,2025-07-03

[3]

ケタール化合物およびその使用[ja] [P].

日本专利 :JP2018505182A ,2018-02-22

[4]

ポリアセタールの製造方法[ja] [P].

KAMOSHITA RYOSUKE ;

SHINOHATA MASAAKI .

日本专利 :JP2025058900A ,2025-04-09

[5]

ポリアセタールの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025181711A ,2025-12-11

[6]

アセタール化合物およびその治療的使用[ja] [P].

日本专利 :JP2021509907A ,2021-04-08

[7]

アリルアミン不斉水素化法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008123067A1 ,2010-07-15

[8]

アセチル化ライター阻害剤の開発およびその使用[ja] [P].

日本专利 :JP2022512900A ,2022-02-07

[9]

活性揮発性カルボニル化合物の制御放出のための光解離性アセタールおよびケタール化合物[ja] [P].

日本专利 :JP2018505877A ,2018-03-01

[10]

活性揮発性カルボニル化合物の制御放出のための光解離性アセタールおよびケタール化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6713474B2 ,2020-06-24

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