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ハイドロジェンビス(フルオロスルホニル)イミドの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180527802
申请日
:
2016-12-03
公开(公告)号
:
JP2019503956A
公开(公告)日
:
2019-02-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B21/093
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
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法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ビス(フルオロスルホニル)イミドの精製[ja]
[P].
日本专利
:JP2022529638A
,2022-06-23
[2]
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024546120A
,2024-12-17
[3]
ビス(ハロスルホニル)アミンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014024682A1
,2016-07-25
[4]
ビニルスルホン酸無水物、その製造方法、及びビニルスルホニルフルオリドの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020012913A1
,2021-04-30
[5]
4,4’-ジクロロジフェニルスルホンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022548511A
,2022-11-21
[6]
4,4’-ジクロロジフェニルスルホンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022547825A
,2022-11-16
[7]
フルオロアルキルアイオダイドの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011152499A1
,2013-08-01
[8]
ビスイミドジカルボン酸の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016163412A1
,2018-02-01
[9]
ハイドロフルオロエーテルを製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025522600A
,2025-07-15
[10]
ヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)の調製プロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2017521402A
,2017-08-03
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