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インク及び処理材料充填システム[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210541733
申请日
:
2020-01-20
公开(公告)号
:
JP2022518243A
公开(公告)日
:
2022-03-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B41J2/175
IPC分类号
:
B41J2/17
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 9 条
[1]
液体管理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP6022765B2
,2016-11-09
[2]
液体管理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP5780810B2
,2015-09-16
[3]
液体管理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP6095887B2
,2017-03-15
[4]
液体管理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP5791939B2
,2015-10-07
[5]
液体管理システムおよび液体管理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013094528A1
,2015-12-10
[6]
液体管理システムおよび液体管理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5819987B2
,2015-11-24
[7]
マトリックス液滴押出機、サンプルホルダおよびサンプル分析システム[ja]
[P].
YEHUDA YAVETS-CHEN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
PICODYA TECH LTD
PICODYA TECH LTD
YEHUDA YAVETS-CHEN
.
日本专利
:JP2025013790A
,2025-01-28
[8]
マトリックス液滴押出機、サンプルホルダおよびサンプル分析システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2025176073A
,2025-12-03
[9]
マトリックス液滴押出機、サンプルホルダおよびサンプル分析システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2022523382A
,2022-04-22
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