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感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びタッチパネルの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170542766
申请日
:
2016-03-28
公开(公告)号
:
JPWO2017056530A1
公开(公告)日
:
2018-08-30
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/027
IPC分类号
:
G03F7/004
G03F7/20
G06F3/041
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びタッチパネルの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017130427A1
,2018-12-20
[2]
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びタッチパネルの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014050567A1
,2016-08-22
[3]
感光性樹脂組成物、硬化物、感光性エレメント、及び、レジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020202329A1
,2021-10-28
[4]
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、構造体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016117509A1
,2017-11-09
[5]
樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、タッチパネルの製造方法及び樹脂硬化膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013084872A1
,2015-04-27
[6]
樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、タッチパネルの製造方法及び樹脂硬化膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013084886A1
,2015-04-27
[7]
感光性エレメント、及び、レジストパターンの形成方法[ja]
[P].
HIRAMATSU NAOKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RESONAC HOLDINGS CORP
RESONAC HOLDINGS CORP
HIRAMATSU NAOKI
.
日本专利
:JP2024087194A
,2024-07-01
[8]
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び配線板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013180131A1
,2016-01-21
[9]
感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7715912B1
,2025-07-30
[10]
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013125429A1
,2015-07-30
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