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ゼロ価水銀を含有するガスの処理方法及び水銀分離システム[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160520929
申请日
:
2015-05-18
公开(公告)号
:
JPWO2015177999A1
公开(公告)日
:
2017-04-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01D53/64
IPC分类号
:
B01D53/82
C01G13/00
C02F1/62
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
水処理方法及び水処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP6109999B1
,2017-04-05
[2]
水処理システム及び水処理方法[ja]
[P].
KAWASHIMA TOSHIO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
POI GIJUTSU KENKYUSHO KK
POI GIJUTSU KENKYUSHO KK
KAWASHIMA TOSHIO
;
KOUMI TAKAO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
POI GIJUTSU KENKYUSHO KK
POI GIJUTSU KENKYUSHO KK
KOUMI TAKAO
.
日本专利
:JP2024042387A
,2024-03-28
[3]
水処理システム及び水処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020021635A1
,2020-08-06
[4]
水処理システム及び水処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6529705B1
,2019-06-12
[5]
水処理システム、及び水処理方法[ja]
[P].
HANAMOTO YOSUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
HANAMOTO YOSUKE
;
YOSHIKAWA SHINICHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
YOSHIKAWA SHINICHI
;
HIRATA TOSHIFUMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
HIRATA TOSHIFUMI
;
TSUDA OSAMU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
TSUDA OSAMU
.
日本专利
:JP2025086686A
,2025-06-09
[6]
水銀ベース化合物を作製する方法、水銀ベース化合物、水銀ベース化合物を使用する方法および水銀ベース化合物の使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2018520972A
,2018-08-02
[7]
水銀ベース化合物を作製する方法、水銀ベース化合物、水銀ベース化合物を使用する方法および水銀ベース化合物の使用[ja]
[P].
日本专利
:JP7741533B2
,2025-09-18
[8]
水銀ベース化合物を作製する方法、水銀ベース化合物、水銀ベース化合物を使用する方法および水銀ベース化合物の使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2023059878A
,2023-04-27
[9]
酸性ガス含有ガス処理用分離膜、及び酸性ガス含有ガス処理用分離膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014199703A1
,2017-02-23
[10]
排気ガスを処理する方法及びHVACシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2024530180A
,2024-08-16
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