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投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20120076984
申请日
:
2012-03-29
公开(公告)号
:
JP5621806B2
公开(公告)日
:
2014-11-12
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/027
IPC分类号
:
G02B13/24
G02B17/08
G03F7/20
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5877965B2
,2016-03-08
[2]
投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5672424B2
,2015-02-18
[3]
投影光学系、露光装置、および、デバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6386896B2
,2018-09-05
[4]
投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007114024A1
,2009-08-13
[5]
投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007111104A1
,2009-08-06
[6]
投影光学系、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007132862A1
,2009-09-24
[7]
投影露光装置、投影露光方法およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005031824A1
,2006-12-07
[8]
投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012043130A1
,2014-02-06
[9]
投影光学系、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、および屈折光学素子[ja]
[P].
日本专利
:JP5723702B2
,2015-05-27
[10]
投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007023665A1
,2009-02-26
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