基板保持装置、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20090272029
申请日
2009-11-30
公开(公告)号
JP5678426B2
公开(公告)日
2015-03-04
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/027
IPC分类号
G03F7/20 H01L21/683
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006064851A1 ,2008-06-12
[3]
基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015064613A1 ,2017-03-09
[4]
[5]
基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2003052804A1 ,2005-04-28
[6]
基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006030908A1 ,2008-05-15
[7]
[9]
[10]
保持装置、露光装置、及びデバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2012115002A1 ,2014-07-07