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基板保持装置、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20090272029
申请日
:
2009-11-30
公开(公告)号
:
JP5678426B2
公开(公告)日
:
2015-03-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/027
IPC分类号
:
G03F7/20
H01L21/683
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
基板保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007066758A1
,2009-05-21
[2]
基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006064851A1
,2008-06-12
[3]
基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015064613A1
,2017-03-09
[4]
基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6436090B2
,2018-12-12
[5]
基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003052804A1
,2005-04-28
[6]
基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006030908A1
,2008-05-15
[7]
基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6855010B2
,2021-04-07
[8]
保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5768793B2
,2015-08-26
[9]
基板保持装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007083592A1
,2009-06-11
[10]
保持装置、露光装置、及びデバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012115002A1
,2014-07-07
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