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酸化物半導体膜の作製方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20150093837
申请日：
2015-05-01
公开(公告)号：
JP6681151B2
公开(公告)日：
2020-04-15
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C23C14/35
IPC分类号：
C23C14/34
H01L21/336
H01L21/363
H01L29/786
H10B12/00
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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