光学デバイス、分析装置、及び光学デバイスの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20190054280
申请日
2019-03-22
公开(公告)号
JP7315163B2
公开(公告)日
2023-07-26
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G01N21/65
IPC分类号
B82Y30/00 B82Y40/00
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
光学デバイスおよび分析装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014097886A1 ,2017-01-12
[2]
光学デバイスおよび分析装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6179905B2 ,2017-08-23
[3]
光分析装置及び光分析デバイス[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005054826A1 ,2007-06-28
[4]
マイクロデバイス及び分析装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7490488B2 ,2024-05-27
[7]
流路デバイス、分析装置及び流体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014181500A1 ,2017-02-23
[8]
流路デバイス、分析装置及び流体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6493204B2 ,2019-04-03
[9]
点検デバイス[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016147714A1 ,2017-12-28