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高分子電解質膜、その製造方法及びこれを含む膜電極アセンブリー[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210517180
申请日
:
2019-06-28
公开(公告)号
:
JP6982220B2
公开(公告)日
:
2021-12-17
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01M8/1053
IPC分类号
:
H01B1/06
H01M8/10
H01M8/1058
H01M8/1062
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子電解質膜、その製造方法及びこれを含む膜電極アセンブリー[ja]
[P].
日本专利
:JP2021503694A
,2021-02-12
[2]
高分子電解質膜、その製造方法及びこれを含む膜電極アセンブリー[ja]
[P].
日本专利
:JP2021525450A
,2021-09-24
[3]
高分子電解質膜、その製造方法及びこれを含む膜電極アセンブリー[ja]
[P].
日本专利
:JP6957754B2
,2021-11-02
[4]
高分子電解質膜、この製造方法、及びこれを含む膜−電極アセンブリ[ja]
[P].
日本专利
:JP6180624B2
,2017-08-16
[5]
高分子電解質膜、この製造方法、及びこれを含む膜−電極アセンブリ[ja]
[P].
日本专利
:JP2016539452A
,2016-12-15
[6]
高分子電解質膜及びこれを含む膜電極アセンブリー[ja]
[P].
日本专利
:JP2023532660A
,2023-07-31
[7]
高分子電解質膜、及びこれを含む膜-電極アセンブリー[ja]
[P].
日本专利
:JP7331253B2
,2023-08-22
[8]
高分子電解質膜及びこれを含む膜電極アセンブリー[ja]
[P].
日本专利
:JP7576110B2
,2024-10-30
[9]
高分子電解質膜、その製造方法及びそれを含む膜電極アセンブリ[ja]
[P].
日本专利
:JP2024542214A
,2024-11-13
[10]
高分子電解質膜、その製造方法及びそれを含む膜−電極アセンブリ[ja]
[P].
日本专利
:JP2015519681A
,2015-07-09
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