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半導体装置およびその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20110545195
申请日
:
2010-12-03
公开(公告)号
:
JPWO2011070981A1
公开(公告)日
:
2013-04-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/336
IPC分类号
:
G02F1/1368
G09F9/00
G09F9/30
H01L21/768
H01L23/522
H01L29/786
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008114423A1
,2010-07-01
[2]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016084688A1
,2017-08-31
[3]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011043300A1
,2013-03-04
[4]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017081922A1
,2018-08-23
[5]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015052991A1
,2017-03-09
[6]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011013374A1
,2013-01-07
[7]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010125810A1
,2012-10-25
[8]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015087586A1
,2017-03-16
[9]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013115050A1
,2015-05-11
[10]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015186602A1
,2017-04-20
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