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プラズマ生成が制御される高周波ガイドワイヤ及びその使用方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170543729
申请日
:
2016-02-18
公开(公告)号
:
JP2018507044A
公开(公告)日
:
2018-03-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
A61B18/14
IPC分类号
:
A61B17/22
H05H1/24
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
プラズマ生成が制御される高周波ガイドワイヤ及びその使用方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7560936B2
,2024-10-03
[2]
プラズマ用ガイドワイヤ[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019003382A1
,2019-11-07
[3]
高周波プラズマ内のイオン流を制御する方法及びシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2017515975A
,2017-06-15
[4]
高周波プラズマ内のイオン流を制御する方法及びシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP6583926B2
,2019-10-02
[5]
プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の高周波電源を制御する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6846384B2
,2021-03-24
[6]
高周波プラズマ生成システム及びこれを用いた高周波プラズマ点火装置。[ja]
[P].
日本专利
:JP5873709B2
,2016-03-01
[7]
高周波照射装置及びその制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7566106B2
,2024-10-11
[8]
高周波電源装置及びその制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6116176B2
,2017-04-19
[9]
高周波電源装置及びその制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5963632B2
,2016-08-03
[10]
高周波電源装置及びその制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5848529B2
,2016-01-27
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