半光沢ニッケルまたはニッケル合金を堆積するためのニッケルまたはニッケル合金の直流電気めっき浴、電気めっきのための方法、およびそのための浴および化合物の使用[ja]

被引：0

申请号：

JP20150220989

申请日：

2015-11-11

公开(公告)号：

JP5877928B2

公开(公告)日：

2016-03-08

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IPC主分类号：

C07D213/82

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共 50 条

[1]

半光沢ニッケルまたはニッケル合金を堆積するためのニッケルまたはニッケル合金の直流電気めっき浴、電気めっきのための方法、およびそのための浴および化合物の使用[ja] [P].

日本专利 :JP2015525294A ,2015-09-03

[2]

半光沢ニッケルまたはニッケル合金を堆積するためのニッケルまたはニッケル合金の直流電気めっき浴、電気めっきのための方法、およびそのための浴および化合物の使用[ja] [P].

日本专利 :JP5882540B2 ,2016-03-09

[3]

ニッケル層の無電解析出のためのめっき浴および方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017535674A ,2017-11-30

[4]

半光沢ニッケル又は半光沢ニッケル合金コーティングを析出するためのガルバニックニッケル又はニッケル合金電気めっき浴[ja] [P].

日本专利 :JP2022528995A ,2022-06-16

[5]

無電解ニッケルめっき浴および無電解ニッケル合金めっき浴[ja] [P].

日本专利 :JP2025164932A ,2025-10-30

[6]

光沢ニッケルめっき方法及び光沢ニッケルめっき皮膜の制御方法。[ja] [P].

日本专利 :JP6542437B1 ,2019-07-10

[7]

ニッケルめっき液及びニッケルめっき液の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018066398A1 ,2019-07-25

[8]

銅−ニッケル合金電気めっき浴及びめっき方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013157639A1 ,2015-12-21

[9]

無電解ニッケル合金メッキ浴、ニッケル合金の析出の方法、ニッケル合金析出物、及びこのように形成したニッケル合金析出物の使用[ja] [P].

日本专利 :JP2022548419A ,2022-11-18

[10]

加工物の垂直相互接続アクセスまたは溝にニッケルもしくはニッケル合金を充填するための浴および方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020533486A ,2020-11-19

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