エテンオキシドを製造する方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220211378

申请日：

2022-12-28

公开(公告)号：

JP2023052150A

公开(公告)日：

2023-04-11

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07D303/04

IPC分类号：

C07D301/12

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法律状态信息

共 50 条

[1]

エテンオキシドを製造する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019524733A ,2019-09-05

[2]

アミンオキシドを製造するための連続プロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2015528808A ,2015-10-01

[3]

シリコンを製造する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018504339A ,2018-02-15

[4]

オレフィンをエポキシ化するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017524706A ,2017-08-31

[5]

ハイドロフルオロエーテルを製造する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025522600A ,2025-07-15

[6]

低エンドトキシンのキトサン製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015511663A ,2015-04-20

[7]

オルガノシロキサンを調製する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018533562A ,2018-11-15

[8]

スルホキシドを酸化する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2016520109A ,2016-07-11

[9]

低エンドトキシンのキトサンの製造方法[ja] [P].

CRAIG HARDY ;

ANDREW HOGGARTH ;

JUNE GLADMAN .

日本专利 :JP2022068318A ,2022-05-09

[10]

低エンドトキシンのキトサンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2016520157A ,2016-07-11

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