誘導結合プラズマ処理システム[ja]

被引：0

申请号：

JP20220504725

申请日：

2020-02-26

公开(公告)号：

JP2022542271A

公开(公告)日：

2022-09-30

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H05H1/46

IPC分类号：

H01L21/3065

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法律状态信息

共 50 条

[1]

高周波誘導結合プラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP5849410B2 ,2016-01-27

[2]

プラズマ処置システム[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015156156A1 ,2017-04-13

[3]

プラズマ処理装置、電源システム、及びプラズマ処理方法[ja] [P].

TAMAMUSHI GEN .

日本专利 :JP2024119243A ,2024-09-03

[4]

プラズマ処理装置及び基板処理システム[ja] [P].

日本专利 :JP7671929B1 ,2025-05-02

[5]

大気圧誘導結合プラズマ装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016051465A1 ,2017-08-03

[6]

プラズマ処理装置及び電源システム[ja] [P].

日本专利 :JP2025166257A ,2025-11-05

[7]

プラズマ処理装置及び電源システム[ja] [P].

TAKEUCHI TAKAHIRO ;

KOBAYASHI KEN .

日本专利 :JP2024097014A ,2024-07-17

[8]

誘導結合型アンテナユニット及びプラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP6709478B1 ,2020-06-17

[9]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019138654A1 ,2020-01-16

[10]

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置[ja] [P].

NAGAUMI KOICHI ;

OSHITA TATSURO ;

NAGASEKI KAZUYA ;

HIMORI SHINJI .

日本专利 :JP2022087334A ,2022-06-09

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