プラズマ処理装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20110001232U

申请日：

2011-03-08

公开(公告)号：

JP3167975U

公开(公告)日：

2011-05-26

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/3065

IPC分类号：

C23C16/44 C23C16/505 H05H1/46

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法律状态信息

共 50 条

[1]

プラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2021124470A1 ,2021-12-23

[2]

プラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020161919A1 ,2021-02-18

[3]

プラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP5874853B1 ,2016-03-02

[4]

プラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010079756A1 ,2012-06-21

[5]

プラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2022105037A ,2022-07-12

[6]

プラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP6013666B1 ,2016-10-25

[7]

プラズマ処理装置[ja] [P].

KOBAYASHI TAKESHI .

日本专利 :JP2024166825A ,2024-11-29

[8]

プラズマ処理装置[ja] [P].

NAGAUMI KOICHI ;

FUJIWARA KAZUNOBU ;

GONDAI TADASHI ;

YAMADA NORIKAZU ;

UMEHARA NAOYUKI .

日本专利 :JP2022107061A ,2022-07-20

[9]

プラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019004184A1 ,2019-12-19

[10]

プラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025171430A ,2025-11-20

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