ハードディスク用平坦化膜形成組成物及びそれを用いたハードディスクの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20120511651

申请日：

2011-04-18

公开(公告)号：

JPWO2011132640A1

公开(公告)日：

2013-07-18

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G11B5/84

IPC分类号：

G11B5/65

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共 50 条

[1]

ハードディスク用平坦化膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013042655A1 ,2015-03-26

[2]

ハードディスク用被膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012086692A1 ,2014-05-22

[3]

ハードディスク用ガラス基板の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014103296A1 ,2017-01-12

[4]

ハードディスク装置用硬化性組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014014045A1 ,2016-07-07

[5]

ハードコートフィルムの製造方法およびハードコートフィルムを用いたディスプレイの製造方法[ja] [P].

TAGUCHI YUSUKE .

日本专利 :JP2024084411A ,2024-06-25

[6]

ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法[ja] [P].

CHUNG JOO YOUNG ;

NAM YOUNHEE ;

JEONG SEULGI .

日本专利 :JP2024134514A ,2024-10-03

[7]

ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法[ja] [P].

CHOI SEIL .

日本专利 :JP2024161913A ,2024-11-20

[8]

ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法[ja] [P].

CHOI SEIL .

日本专利 :JP2024144281A ,2024-10-11

[9]

磁気ハードディスク用ガラス基板のテクスチャ加工方法及びスラリー[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005101379A1 ,2007-08-30

[10]

光ディスク用紫外線硬化型組成物及び光ディスク[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010109552A1 ,2012-09-20

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