イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20150088974

申请日：

2015-04-24

公开(公告)号：

JP6503859B2

公开(公告)日：

2019-04-24

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01J37/317

IPC分类号：

H01J37/30 H01L21/265

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共 50 条

[1]

イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射方法[ja] [P].

ONODA MASATOSHI ;

GOTO RYOSUKE ;

NAGAO YUICHI ;

UI TOSHIMASA .

日本专利 :JP2024048246A ,2024-04-08

[2]

イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP7534722B2 ,2024-08-15

[3]

イオンビーム照射方法およびイオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6638479B2 ,2020-01-29

[4]

イオンビーム照射方法及びイオンビーム照射装置[ja] [P].

UCHIDA YUYA ;

KAI HIROAKI .

日本专利 :JP2024139099A ,2024-10-09

[5]

イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射装置の運転方法[ja] [P].

日本专利 :JP5672297B2 ,2015-02-18

[6]

イオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6944652B2 ,2021-10-06

[7]

イオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6414763B1 ,2018-10-31

[8]

イオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6607517B2 ,2019-11-20

[9]

イオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013122088A1 ,2015-05-11

[10]

イオンビーム照射装置[ja] [P].

NISHIMURA IPPEI .

日本专利 :JP2024027945A ,2024-03-01

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