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レーザ光のビームプロファイル測定装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210503364
申请日
:
2019-03-07
公开(公告)号
:
JPWO2020179049A1
公开(公告)日
:
2021-11-25
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01J1/02
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
レーザ光のビームプロファイル測定装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019021435A1
,2019-07-25
[2]
レーザ光のビームプロファイル測定装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6490241B1
,2019-03-27
[3]
レーザビームプロファイル測定装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6244502B1
,2017-12-06
[4]
レーザビームプロファイル測定装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018193491A1
,2019-04-25
[5]
入射レーザビームのビーム成形装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2024527768A
,2024-07-26
[6]
レーザ出力測定装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013098887A1
,2015-04-30
[7]
固体レーザー装置の光ガイドの光入射窓[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005091448A1
,2008-02-07
[8]
光ファイバアレイ及び半導体レーザ集光装置及び光ファイバアレイの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007111046A1
,2009-08-06
[9]
レーザビームを成形するための装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2017503200A
,2017-01-26
[10]
光断層画像測定装置のプローブ及びプローブの調整方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011062087A1
,2013-04-04
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