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ケイ素化合物を含有する排ガスを浄化するための排ガス処理触媒[ja]
被引:0
申请号
:
JP20130071050
申请日
:
2013-03-29
公开(公告)号
:
JP5918718B2
公开(公告)日
:
2016-05-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01J23/42
IPC分类号
:
B01D53/86
B01J33/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
排気ガス流を処理するための四元変換触媒[ja]
[P].
日本专利
:JP2021536357A
,2021-12-27
[2]
硫黄化合物含有排ガス浄化用触媒及び硫黄化合物含有排ガスの浄化方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7583441B2
,2024-11-14
[3]
鉄化合物の影響を抑制した排ガス浄化触媒[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009119639A1
,2011-07-28
[4]
排ガス浄化用触媒と排ガスの浄化方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005094991A1
,2008-07-31
[5]
ガスを処理し浄化するためのフィルタ材料[ja]
[P].
日本专利
:JP2014529490A
,2014-11-13
[6]
排ガス浄化用触媒及び該触媒を用いた排ガス浄化方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014119749A1
,2017-01-26
[7]
リン化合物含有排ガス浄化用触媒[ja]
[P].
日本专利
:JP6544881B1
,2019-07-17
[8]
リン化合物含有排ガス浄化用触媒[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019131796A1
,2020-01-16
[9]
揮発性有機化合物を含有する排ガスの処理装置および処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5846546B2
,2016-01-20
[10]
ケイ素化合物、及びそのケイ素化合物を使用する膜を堆積するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022544951A
,2022-10-24
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