放射性微粒子製造システムおよび放射性微粒子製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20190507549

申请日：

2018-03-09

公开(公告)号：

JP7095894B2

公开(公告)日：

2022-07-05

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G21G4/10

IPC分类号：

G21G4/06 G21H5/00

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共 50 条

[1]

放射性微粒子製造システムおよび放射性微粒子製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018173811A1 ,2020-01-23

[2]

放射性微粒子及び非放射性微粒子の組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2022547277A ,2022-11-11

[3]

液中の放射性微粒子除去システムおよび液中の放射性微粒子除去方法[ja] [P].

日本专利 :JP6815923B2 ,2021-01-20

[4]

微粒子製造装置および微粒子製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6920676B2 ,2021-08-18

[5]

微粒子製造装置および微粒子製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6429949B2 ,2018-11-28

[6]

微粒子の製造方法および微粒子[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019146411A1 ,2021-01-07

[7]

微粒子および微粒子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7488832B2 ,2024-05-22

[8]

微粒子の製造方法、および、微粒子製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025002915A ,2025-01-09

[9]

微粒子製造装置及び微粒子製造方法[ja] [P].

MARUYAMA DAIKI ;

KOISHIZAKI TSUYOSHI ;

NAGAI HISAO .

日本专利 :JP2023172646A ,2023-12-06

[10]

微粒子製造装置及び微粒子製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6551851B2 ,2019-07-31

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