共 50 条
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シリコンを基板に連続蒸着する方法及び装置[ja]
被引：0
申请号：
JP20200523815
申请日：
2018-10-25
公开(公告)号：
JP2021501261A
公开(公告)日：
2021-01-14
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C23C16/44
IPC分类号：
C01B33/03
C23C16/24
C30B25/02
C30B29/06
H01L21/205
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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