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酸化物スパッタリングターゲット、および、酸化物スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210000440
申请日
:
2021-01-05
公开(公告)号
:
JP2022105853A
公开(公告)日
:
2022-07-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C04B35/453
IPC分类号
:
C23C14/34
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酸化物スパッタリングターゲット、及び、酸化物スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7028268B2
,2022-03-02
[2]
酸化物スパッタリングターゲット、及び酸化物スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6414165B2
,2018-10-31
[3]
酸化物スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6957815B2
,2021-11-02
[4]
酸化物スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6212869B2
,2017-10-18
[5]
酸化物スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6859837B2
,2021-04-14
[6]
酸化物スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6961925B2
,2021-11-05
[7]
酸化物スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6850981B2
,2021-03-31
[8]
Zn−Ti酸化物スパッタリングターゲットおよびZn−Ti酸化物スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6828396B2
,2021-02-10
[9]
酸化物スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JP6731147B2
,2020-07-29
[10]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066114A1
,2021-10-21
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