基板のガス放出を管理するためのシステム及び方法[ja]

被引:0
申请号
JP20220524939
申请日
2020-12-14
公开(公告)号
JP2023507878A
公开(公告)日
2023-02-28
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/31
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
基板を平坦化するためのシステム及び方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2018516385A ,2018-06-21
[3]
消毒するための方法およびシステム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019517900A ,2019-06-27
[4]
[5]
化合物を分離するための方法及びシステム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023521599A ,2023-05-25
[6]
化合物を分離するための方法及びシステム[ja] [P]. 
日本专利 :JP7688659B2 ,2025-06-04
[8]
角膜を作製するためのシステムおよび方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022534694A ,2022-08-03
[9]
口臭を検出するためのシステムおよび方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2018528793A ,2018-10-04