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基板のガス放出を管理するためのシステム及び方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220524939
申请日
:
2020-12-14
公开(公告)号
:
JP2023507878A
公开(公告)日
:
2023-02-28
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/31
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
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法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
基板を平坦化するためのシステム及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018516385A
,2018-06-21
[2]
ガス流からメタンを除去するためのシステム及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022159988A
,2022-10-18
[3]
消毒するための方法およびシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2019517900A
,2019-06-27
[4]
患者の健康状態を評価するためのシステム及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020521128A
,2020-07-16
[5]
化合物を分離するための方法及びシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2023521599A
,2023-05-25
[6]
化合物を分離するための方法及びシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP7688659B2
,2025-06-04
[7]
硫酸マンガンを調製するための方法、システム、及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2023525046A
,2023-06-14
[8]
角膜を作製するためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022534694A
,2022-08-03
[9]
口臭を検出するためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018528793A
,2018-10-04
[10]
抗微生物性ガス放出剤、並びにその使用のためのシステム及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022121489A
,2022-08-19
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