修飾抗体、および、放射性金属標識抗体[ja]

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申请号
JP20200514375
申请日
2019-04-15
公开(公告)号
JP7327762B2
公开(公告)日
2023-08-16
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C07K16/00
IPC分类号
A61K39/395 A61K47/68 A61K51/10 C07D257/02 C07K7/08 C07K19/00
代理机构
代理人
法律状态
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共 50 条
[1]
修飾抗体、および、放射性金属標識抗体[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019203191A1 ,2021-04-22
[2]
放射性金属標識抗体の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025157484A ,2025-10-15
[3]
放射性金属標識抗カドヘリン抗体[ja] [P]. 
日本专利 :JP5848737B2 ,2016-01-27
[4]
修饰抗体、及放射性金属标记抗体 [P]. 
香本祥汰 ;
小川祐 ;
正山祥生 ;
波多野正 ;
伊东祐二 ;
荒野泰 ;
铃木博元 ;
上原知也 .
日本专利 :CN112041337B ,2025-01-07
[5]
修饰抗体、及放射性金属标记抗体 [P]. 
香本祥汰 ;
小川祐 ;
正山祥生 ;
波多野正 ;
伊东祐二 ;
荒野泰 ;
铃木博元 ;
上原知也 .
中国专利 :CN112041337A ,2020-12-04
[6]
放射性金属標識抗カドヘリン抗体[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011099524A1 ,2013-06-13
[7]
放射性標識薬剤[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017150549A1 ,2019-01-10
[8]
放射性標識方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6604976B2 ,2019-11-13
[9]
放射性標識方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2017519032A ,2017-07-13
[10]
放射性標識方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6650873B2 ,2020-02-19