透明導電膜の製造方法及び透明導電膜、透明導電基板並びにそれを用いたデバイス[ja]

被引:0
申请号
JP20100541377
申请日
2009-12-01
公开(公告)号
JPWO2010064719A1
公开(公告)日
2012-05-10
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01B13/00
IPC分类号
C03C17/25 G09F9/00 G09F9/30 H01B5/14 H01L31/04 H01L51/50 H05B33/10 H05B33/14 H05B33/28
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[3]
透明導電膜及びそれを用いた透明導電性基材[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005083722A1 ,2008-01-17
[4]
透明導電膜の成膜方法及び透明導電膜基板[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008044473A1 ,2010-02-04
[6]
透明導電膜および透明導電膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009031399A1 ,2010-12-09
[7]
透明導電体の製造方法及び透明導電体[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015107968A1 ,2017-03-23