改善された光線力学的処理およびそれから得られる生成物[ja]

被引:0
申请号
JP20170543390
申请日
2016-02-19
公开(公告)号
JP2018507205A
公开(公告)日
2018-03-15
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
A61K41/00
IPC分类号
A61K35/17 A61P35/00 A61P37/06 C12N5/02 C12N5/09
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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[7]
化合物またはその塩、およびそれらにより得られる抗体[ja] [P]. 
HATADA NORIKO ;
YAMADA KEI ;
MATSUDA YUTAKA ;
FUJII TOMOHIRO .
日本专利 :JP2025124732A ,2025-08-26
[8]
化合物またはその塩、およびそれらにより得られる抗体[ja] [P]. 
FUJII TOMOHIRO ;
YAMADA KEI ;
MATSUDA YUTAKA ;
HIRAMA RYUSUKE ;
HATADA NORIKO ;
ARASHIDA NAOKO .
日本专利 :JP2025038071A ,2025-03-18