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シリルホスフィン化合物、シリルホスフィン化合物の製造方法及びＩｎＰ量子ドットの製造方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20200510790
申请日：
2019-03-20
公开(公告)号：
JPWO2019188680A1
公开(公告)日：
2021-04-01
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C07F19/00
IPC分类号：
C01B25/08
C07F7/08
C07F9/06
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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