（Ｒ）−および（Ｓ）−１−（３−（３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニル）フェノキシル−４−ニトロフェニル）−１−エチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（エチレン）ホスホルアミデート、組成物ならびにその使用方法および製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20170563179

申请日：

2016-11-15

公开(公告)号：

JP2018517710A

公开(公告)日：

2018-07-05

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07F9/24

IPC分类号：

A61K31/675 A61P35/00 A61P35/02 A61P43/00

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共 50 条

[1]

混合物からのＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルビスアミノエチルエーテル及び／又はＮ，Ｎ−ジメチルビスアミノエチルエーテルの分離方法[ja] [P].

日本专利 :JP2016533324A ,2016-10-27

[2]

混合物からのＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルビスアミノエチルエーテル及び／又はＮ，Ｎ−ジメチルビスアミノエチルエーテルの分離方法[ja] [P].

日本专利 :JP6266098B2 ,2018-01-24

[3]

Ｎ−［４−（１−アミノエチル）−フェニル］−スルホンアミド誘導体のキラル分割方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018506503A ,2018-03-08

[4]

化合物、フォトクロミック材料、電子材料、化合物製造方法、２，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（ｐ−アニシル）４−アミノフェニルエチニル）フマル酸ジメチル製造方法、２，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（ｐ−アニシル）４−アミノフェニルエチニル）マレイン酸ジメチル製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009098792A1 ,2011-05-26

[5]

Ｎ−［５−（アミノスルホニル）−４−メチル−１，３−チアゾール−２−イル］−Ｎ−メチル−２−［４−（２−ピリジニル）フェニル］アセトアミドメシレート一水和物[ja] [P].

日本专利 :JP2014528948A ,2014-10-30

[6]

Ｎ，Ｎ−ビス（２−ジアルキルホスフィノエチル）アミン−ボラン錯体及びその製造法、並びにＮ，Ｎ−ビス（２−ジアルキルホスフィノエチル）アミンを配位子とするルテニウム錯体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017131226A1 ,2018-11-22

[7]

化合物Ｎ−（３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ’−（２−トリフルオロメチルフェニル）グアニジンの調製方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018525393A ,2018-09-06

[8]

Ｎ−［５−（アミノスルホニル）−４−メチル−１，３−チアゾール−２−イル］−Ｎ−メチル−２−［４−（２−ピリジニル）−フェニル］−アセトアミド遊離塩基半水和物、製造方法およびその用途[ja] [P].

日本专利 :JP2020509991A ,2020-04-02

[9]

Ｎ−アルキル−ニトラトエチルニトラミンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021515795A ,2021-06-24

[10]

Ｎ−（４−ニトロ−２−スルファモイル−フェニル）−マロンアミド酸メチルエステルおよびＮ−（４−アミノ−２−スルファモイル−フェニル）−マロンアミド酸メチルエステルの製造のための新規な製法[ja] [P].

日本专利 :JP2016508990A ,2016-03-24

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