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屈曲配位子を含有する高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20130058264
申请日
:
2013-03-21
公开(公告)号
:
JP6591728B2
公开(公告)日
:
2019-10-16
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07C63/331
IPC分类号
:
B01J20/26
C08G79/14
F17C11/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6456075B2
,2019-01-23
[2]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6425378B2
,2018-11-21
[3]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6132596B2
,2017-05-24
[4]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6452357B2
,2019-01-16
[5]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6456076B2
,2019-01-23
[6]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6422211B2
,2018-11-14
[7]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6338476B2
,2018-06-06
[8]
ふっ素原子を含有する多孔高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6091256B2
,2017-03-08
[9]
多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6525686B2
,2019-06-05
[10]
多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6021691B2
,2016-11-09
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