高周波誘導熱プラズマ装置[ja]

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申请号
JP20180000244
申请日
2018-01-04
公开(公告)号
JP6962825B2
公开(公告)日
2021-11-05
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
B01J19/08
IPC分类号
B22F9/14 C01B13/14 C01B33/021 H05H1/30
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
高周波誘導熱プラズマ装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7054663B2 ,2022-04-14
[2]
高周波誘導加熱装置およびプラズマCVD装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009011015A1 ,2010-09-09
[3]
高周波誘導結合プラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5849410B2 ,2016-01-27
[4]
高周波プラズマ合成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP3196547U ,2015-03-19
[5]
高周波誘導加熱装置[ja] [P]. 
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[6]
高周波誘導加熱装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022191528A ,2022-12-27
[7]
高周波誘導加熱装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7540934B2 ,2024-08-27
[8]
高周波誘導加熱装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7581299B2 ,2024-11-12
[9]
高周波誘導加熱装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6143696B2 ,2017-06-07
[10]
高周波誘導加熱装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6223521B2 ,2017-11-01