学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
高周波誘導熱プラズマ装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180000244
申请日
:
2018-01-04
公开(公告)号
:
JP6962825B2
公开(公告)日
:
2021-11-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01J19/08
IPC分类号
:
B22F9/14
C01B13/14
C01B33/021
H05H1/30
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高周波誘導熱プラズマ装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7054663B2
,2022-04-14
[2]
高周波誘導加熱装置およびプラズマCVD装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009011015A1
,2010-09-09
[3]
高周波誘導結合プラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5849410B2
,2016-01-27
[4]
高周波プラズマ合成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP3196547U
,2015-03-19
[5]
高周波誘導加熱装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6451108B2
,2019-01-16
[6]
高周波誘導加熱装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022191528A
,2022-12-27
[7]
高周波誘導加熱装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7540934B2
,2024-08-27
[8]
高周波誘導加熱装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7581299B2
,2024-11-12
[9]
高周波誘導加熱装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6143696B2
,2017-06-07
[10]
高周波誘導加熱装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6223521B2
,2017-11-01
←
1
2
3
4
5
→