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水性溶媒に基づく支持イオン選択性膜の連続製造法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150552620
申请日
:
2013-07-19
公开(公告)号
:
JP2016505427A
公开(公告)日
:
2016-02-25
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B29C41/24
IPC分类号
:
B01J39/04
B01J39/20
B01J41/04
B01J41/14
B01J47/12
C08F220/58
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 44 条
[1]
水性溶媒に基づく支持イオン選択性膜の連続製造法[ja]
[P].
日本专利
:JP6188821B2
,2017-08-30
[2]
イミド基含有化合物水性溶媒溶液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6487501B2
,2019-03-20
[3]
水性溶媒を使用するベンゾオキサジンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5902904B2
,2016-04-13
[4]
イミド基含有化合物水性溶媒溶液及びイミド基含有化合物水性溶媒溶液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6402283B1
,2018-10-10
[5]
イミド基含有化合物水性溶媒溶液及びイミド基含有化合物水性溶媒溶液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019012722A1
,2019-07-11
[6]
(半)導電性ナノ粒子に基づくインク調合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2019510844A
,2019-04-18
[7]
陰イオン交換膜及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010055889A1
,2012-04-12
[8]
高電力ダイオードに基づく付加製造のためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016518516A
,2016-06-23
[9]
疎水性溶媒中に分散されたモノマー水溶液の重合による超吸収剤粒子の不連続的な製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7130670B2
,2022-09-05
[10]
疎水性溶媒中に分散されたモノマー水溶液の重合による超吸収剤粒子の不連続的な製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020518702A
,2020-06-25
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