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正浸透膜および正浸透処理システム[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160542579
申请日
:
2015-08-10
公开(公告)号
:
JPWO2016024573A1
公开(公告)日
:
2017-04-27
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01D71/72
IPC分类号
:
B01D61/00
B01D63/02
B01D69/00
B01D69/06
B01D69/08
B01D69/10
B01D69/12
B01D71/16
B01D71/38
B01D71/56
B01D71/64
B01D71/68
B32B1/08
B32B3/24
B32B27/00
C02F1/44
C08J9/28
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
正浸透膜および正浸透処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP6320537B2
,2018-05-09
[2]
逆浸透膜処理システムおよび逆浸透膜処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6807219B2
,2021-01-06
[3]
逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP7008470B2
,2022-01-25
[4]
逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP6837301B2
,2021-03-03
[5]
逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018084061A1
,2019-04-11
[6]
逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP6622424B2
,2019-12-18
[7]
逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP7290911B2
,2023-06-14
[8]
逆浸透膜処理システム、および、逆浸透膜処理方法[ja]
[P].
INOUE YUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
INOUE YUKI
;
NAKAMURA HIDEKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
NAKAMURA HIDEKI
.
日本专利
:JP2025073562A
,2025-05-13
[9]
逆浸透膜処理方法、逆浸透膜処理システム、水処理方法、および水処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP7141919B2
,2022-09-26
[10]
正浸透水処理装置および方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022129708A
,2022-09-06
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