学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
高分子組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200521335
申请日
:
2018-11-07
公开(公告)号
:
JP6989181B2
公开(公告)日
:
2022-01-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C08L53/00
IPC分类号
:
B32B27/30
C08F293/00
H01L21/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2019536875A
,2019-12-19
[2]
高分子組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6505936B1
,2019-04-24
[3]
高分子組成物[ja]
[P].
KU SE JIN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LG CHEMICAL LTD
KU SE JIN
;
LEE MI SOOK
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LG CHEMICAL LTD
LEE MI SOOK
;
RYU HYUNG JU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LG CHEMICAL LTD
RYU HYUNG JU
;
YOON SUNG SOO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LG CHEMICAL LTD
YOON SUNG SOO
;
PARK NO JIN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LG CHEMICAL LTD
PARK NO JIN
;
KIM JUNG KEUN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LG CHEMICAL LTD
KIM JUNG KEUN
;
LEE JE GWON
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LG CHEMICAL LTD
LEE JE GWON
;
CHOI EUN YOUNG
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LG CHEMICAL LTD
CHOI EUN YOUNG
.
日本专利
:JP2022023985A
,2022-02-08
[4]
高分子組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021500428A
,2021-01-07
[5]
高分子組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7657566B2
,2025-04-07
[6]
高分子組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7078211B2
,2022-05-31
[7]
高分子組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2019512560A
,2019-05-16
[8]
高分子組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7452819B2
,2024-03-19
[9]
高分子組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003082987A1
,2005-08-04
[10]
高分子組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2016524011A
,2016-08-12
←
1
2
3
4
5
→