新規化合物とその錯体並びに錯体の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20110079321

申请日：

2011-03-31

公开(公告)号：

JP5635443B2

公开(公告)日：

2014-12-03

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07D233/60

IPC分类号：

C07C41/30 C07C43/205

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

錯体化合物およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7677883B2 ,2025-05-15

[2]

金属錯体化合物及びその製造方法[ja] [P].

AKIYAMA SEIJI ;

YAGI SHIGEYUKI ;

SHIKURA RYUTA ;

YONEDA KEIMA .

日本专利 :JP2024125197A ,2024-09-13

[3]

錯体及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018139607A1 ,2019-11-14

[4]

新規化合物及びその製造方法、並びにその用途[ja] [P].

日本专利 :JP6326040B2 ,2018-05-16

[5]

新規化合物及びその製造方法、並びにその用途[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014132904A1 ,2017-02-02

[6]

化合物の製造方法、及び金属多核錯体[ja] [P].

日本专利 :JP2025132337A ,2025-09-10

[7]

新規なジアミン化合物および金属錯体、並びに光学活性化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6286755B2 ,2018-03-07

[8]

新規化合物、並びにその製造方法及び用途[ja] [P].

日本专利 :JP6884653B2 ,2021-06-09

[9]

新規化合物、その用途、及び新規化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025139233A ,2025-09-26

[10]

金属錯体及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010021345A1 ,2012-01-26

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