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成膜装置及び成膜装置の制御方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220070776
申请日
:
2022-04-22
公开(公告)号
:
JP2022090053A
公开(公告)日
:
2022-06-16
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/24
IPC分类号
:
C23C14/54
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
成膜装置、成膜装置の制御装置及び成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6932873B1
,2021-09-08
[2]
成膜装置、成膜装置の制御装置及び成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7686414B2
,2025-06-02
[3]
成膜装置、成膜装置の制御装置及び成膜方法[ja]
[P].
YAKUSHIGAMI HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CANON ANELVA CORP
CANON ANELVA CORP
YAKUSHIGAMI HIROSHI
;
SAKAMOTO REIJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CANON ANELVA CORP
CANON ANELVA CORP
SAKAMOTO REIJI
;
SHIBAMOTO MASAHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CANON ANELVA CORP
CANON ANELVA CORP
SHIBAMOTO MASAHIRO
.
日本专利
:JP2025122073A
,2025-08-20
[4]
成膜装置及び成膜装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7064407B2
,2022-05-10
[5]
成膜装置及び成膜装置の制御方法[ja]
[P].
KOJIMA YASUHIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KOJIMA YASUHIKO
;
ISHIBASHI SHOTA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
ISHIBASHI SHOTA
;
KITADA TORU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KITADA TORU
.
日本专利
:JP2024011978A
,2024-01-25
[6]
成膜装置及び成膜装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6843533B2
,2021-03-17
[7]
成膜装置及び成膜装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7262647B2
,2023-04-21
[8]
成膜装置及び成膜装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7021318B2
,2022-02-16
[9]
成膜制御装置、成膜装置及び成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7171092B1
,2022-11-15
[10]
成膜方法、成膜装置、および該成膜装置の制御装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011093334A1
,2013-06-06
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