ドライエッチングガスおよびドライエッチング方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20060513984

申请日：

2005-05-30

公开(公告)号：

JPWO2005117082A1

公开(公告)日：

2008-04-03

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/3065

IPC分类号：

C07C41/18 C07C43/17 C07C45/51 C07C45/67 C07C45/82 C07C49/227 C07F9/535 H01L21/311

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

ドライエッチングガスおよびドライエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002021586A1 ,2004-01-15

[2]

ドライエッチングガスおよびドライエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002039494A1 ,2004-03-18

[3]

ドライエッチングガス組成物及びドライエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018186364A1 ,2020-02-27

[4]

ドライエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014104290A1 ,2017-01-19

[5]

ドライエッチング方法、ドライエッチング剤、及びその保存容器[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020153066A1 ,2021-12-02

[6]

ドライエッチング用組成物およびドライエッチング用組成物充填済み容器[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017159544A1 ,2019-01-24

[7]

エッチング装置およびエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010103939A1 ,2012-09-13

[8]

フィルターおよびその製造方法、並びに、ドライエッチング用装置およびドライエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017169809A1 ,2019-02-14

[9]

炭素原子含有膜のドライエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025128420A ,2025-09-03

[10]

エッチング液及びエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008111389A1 ,2010-06-24

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