６０℃超２００℃未満の沸点（標準圧力で）を有する溶媒（略して低沸点溶媒と称する）の存在下における糖溶液からの５−ヒドロキシメチルフルフラール（ＨＭＦ）の調製[ja]

被引：0

申请号：

JP20140546457

申请日：

2012-12-11

公开(公告)号：

JP2015501821A

公开(公告)日：

2015-01-19

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07D307/48

IPC分类号：

C07D307/50

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共 31 条

[1]

６０℃超２００℃未満の沸点（標準圧力で）を有する溶媒（略して低沸点溶媒と称する）の存在下における糖溶液からの５−ヒドロキシメチルフルフラール（ＨＭＦ）の調製[ja] [P].

日本专利 :JP6073364B2 ,2017-02-01

[2]

スチームの存在下におけるヘキソース溶液からの５−ヒドロキシメチルフルフラール（ＨＭＦ）の調製[ja] [P].

日本专利 :JP2015500313A ,2015-01-05

[3]

５－ヒドロキシメチルフルフラール（５－ＨＭＦ）水溶液の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024547101A ,2024-12-26

[4]

高純度の５－ヒドロキシメチルフルフラール（５－ＨＭＦ）水溶液の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024547102A ,2024-12-26

[5]

水中でヒドロメチルフルフラールから２，５−フランジカルボン酸を生成するための触媒および方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017525689A ,2017-09-07

[6]

濾過に組み込まれるまたは濾過前の液液抽出工程を含む５－ヒドロキシメチルフルフラールの水溶液を製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025539563A ,2025-12-05

[7]

２−メチルアリルアルコキシドのアルコール溶液を連続的に製造する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021512931A ,2021-05-20

[8]

エタノールへの直接発酵に好適な未反応の糖類の回収とともに、糖類からＨＭＦおよびＨＭＦ誘導体を製造する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015504069A ,2015-02-05

[9]

メソ細孔を有する非晶質な多孔質体の製造方法および当該多孔質体を触媒に用いた５－ヒドロキシメチルフルフラールの製造方法[ja] [P].

CHEN PENGRU ;

MIMURA NAOKI ;

HIYOSHI NORITO ;

YAMAGUCHI ARITOMO .

日本专利 :JP2024037309A ,2024-03-19

[10]

ポリ－ベータ－ヒドロキシアルカノエートフィルムを調製するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025524642A ,2025-07-30

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