学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
基板を低温流体混合物で処理するためのシステム及び方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200518011
申请日
:
2018-09-25
公开(公告)号
:
JP7291691B2
公开(公告)日
:
2023-06-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/304
IPC分类号
:
B08B7/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
基板を低温流体混合物で処理するためのシステム及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020536378A
,2020-12-10
[2]
極低温流体混合物で基板を処理するシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6886771B2
,2021-06-16
[3]
極低温流体混合物で基板を処理するシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7023332B2
,2022-02-21
[4]
極低温流体混合物で基板を処理するシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6655934B2
,2020-03-04
[5]
極低温流体混合物で基板を処理するシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6797520B2
,2020-12-09
[6]
極低温流体混合物で基板を処理するシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7023333B2
,2022-02-21
[7]
極低温流体混合物で基板を処理するシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6690915B2
,2020-04-28
[8]
流体混合物を処理するための装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2017524521A
,2017-08-31
[9]
流体混合物を処理するための装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6412249B2
,2018-10-24
[10]
混合物を処理するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015523338A
,2015-08-13
←
1
2
3
4
5
→