化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20180163215

申请日：

2018-08-31

公开(公告)号：

JP7233871B2

公开(公告)日：

2023-03-07

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07D493/04

IPC分类号：

C07C381/12 C07D319/08 C08F220/30 G03F7/004 G03F7/038 G03F7/039 G03F7/20

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法律状态：

国省代码：

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共 50 条

[1]

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6803665B2 ,2020-12-23

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化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6774214B2 ,2020-10-21

[3]

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6959726B2 ,2021-11-05

[4]

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7492843B2 ,2024-05-30

[5]

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6507065B2 ,2019-04-24

[6]

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6789068B2 ,2020-11-25

[7]

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7389567B2 ,2023-11-30

[8]

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

HIGO MUTSUKO ;

ICHIKAWA KOJI .

日本专利 :JP2024001026A ,2024-01-09

[9]

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5923423B2 ,2016-05-24

[10]

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7198068B2 ,2022-12-28

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