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アミック酸を含むシリコン含有レジスト下層膜形成組成物[ja]
被引：0
申请号：
JP20120501786
申请日：
2011-02-22
公开(公告)号：
JPWO2011105368A1
公开(公告)日：
2013-06-20
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/11
IPC分类号：
C08G77/26
G03F7/26
H01L21/027
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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